MicroStationCONNECT Edition 帮助

阴影

渲染功能可从所有光源单元生成阴影。要实现此功能,必须在“渲染设置管理器”对话框的“设置”选项卡中为光源、材料启用阴影。阴影可以清晰或柔和,具体取决于渲染计算过程中从每个光源采集的采样点数。

注释: 如果显示样式启用了“阴影”选项,则可以在视图中看见阴影。
提示: 通常在渲染视图时应关闭它的构造。这样可确保任何光源单元都不会投射不需要的阴影。

柔和阴影

可以控制光源产生的阴影的锐度。这可以是全局的,即为所有光源指定相同值;或者为每个光源单独指定,即每个光源使用自己的阴影生成设置。可在“阴影”的“设置”中进行以下选择:

  • 每一光线 - 锐度由每个光源的“阴影”设置控制。
  • 清晰 - 1 个采样点
  • 柔和 - 粗糙 - 16 个采样点
  • 柔和 - 中等质量 - 64 个采样点
  • 柔和 - 精细 - 160 个采样点
  • 柔和 - 超精细 - 256 个采样点


    使用来自单个点光源的光线进行渲染。| 上:阴影设置为“清晰”| 下:阴影设置为“柔和 - 超精细”

执行柔和阴影计算时,渲染过程将采用所有点光和射灯光的缺省大小 12 英寸。当光源放置在灯具范围内时,如果需要灯具投射阴影,这可能导致光线不自然。在此类情况中,需要使用放置光源工具设置窗口中的“灯泡大小”选项来更改模型中所有点光和射灯光的大小。