MicroStationCONNECT Edition 帮助

约束剩余孔

  1. 选择“约束特征”工具。

  2. 单击“添加新约束”图标,然后选择“距离”图标。
  3. 选中“距离”复选框。
  4. 选择孔。

    该孔将高亮显示。同时,“距离”设置的“等式”按钮将启用。

  5. 单击“等式”图标。

    将打开输入等式对话框。

  6. 在输入等式对话框中,选中“局部”复选框以显示实体上特征的局部变量。
  7. 在变量列表中,双击局部变量 _HOLE3_Diameter。

    该变量即会在上面的文本字段中显示。

  8. 在文本字段中,将 *1.5 添加到已存在的变量中。

    等式应为 _HOLE3_Diameter*1.5,

    它将使该约束为孔直径的 1.5 倍。

  9. 单击“确定”。

    等式对话框关闭,且值 15 会输入到“距离”字段中 — 此值是孔直径 (10 mm) 的 1.5 倍。

  10. 选择其中一条与孔相邻的边。
  11. 在按住 <ctrl> 键的同时单击数据点,可选择其余与孔相邻的边。

    在每种情况中,尺寸 15 都将动态显示以展示约束值。

  12. 接受以预览约束的效果。
  13. 接受以完成添加约束。

    孔将移动到所需位置。



    左:选择特征 (1),然后在单击等式图标并输入等式后,选择边(2 和 3)。| 右:接受 (4) 以查看约束的效果,再次单击 (5) 以接受。

约束特征后,更改底层体块的参数将导致特征根据需要移动,以保持已定义的约束。



修改底层实体后,特征将保持其约束设置。

同样,更改特征的参数将使其根据需要重新定位,以保持已定义的约束。



修改后的特征仍将保持其约束设置。