MicroStationCONNECT Edition 帮助

光线跟踪器选项卡

常规部分

设置	描述
输出通道	可用于选择渲染输出。启用时，渲染引擎将为所选通道渲染一个单独的通道。渲染完成时，您可以使用渲染对话框中的保存选项，将选择的通道保存到文件。注释: 当进行光线跟踪时，将始终渲染颜色和透明度，并且始终为所有光线跟踪渲染设置启用它。路径跟踪器不支持下图中标记为红色的通道：
反射	确定在光线跟踪渲染中如何跟踪反射光线。反射深度 - 此设置确定看到反射的次数。例如，想象一个使用一组镜子显示几何图案的万花筒。顶部：反射深度 = 无 \| 底部：反射深度 = 四
折射	确定如何在光线跟踪渲染中跟踪折射光线。折射深度 - 控制折射光线在被终止之前传播的透明曲面数。一个有一定厚度的建模玻璃窗将由两个透明曲面组成，折射深度设置为 2。同样，要让光线通过一个精确建模的玻璃瓶，折射深度需要为 4。将两个瓶子放在一条直线上，折射深度需要为 8 才能透过两个瓶子。加入液体会额外增加两个透明度平面，这意味着要透过装有液体的两个瓶子，折射深度需要为 12。如果将折射深度设置得太低，将导致黑色像素，使折射光线将提前终止。在下面的渲染中，您可以看到折射深度设置对渲染的影响。在这个测试案例中，为了避免由于产生黑色像素而提前终止折射光线，您需要将折射深度设置为 12 或更高。从上到下：折射深度 = 5、8、12、16
笔划公差	用于控制在曲面被渲染前将其分解成的三角形的数量。值越小，效果就越平滑，但代价是渲染时间更长。笔划公差可以按照像素或物理单位进行定义。笔划公差可以设置为米或像素为单位的距离，如果使用后者，结果将取决于视图，也就是说，如果相机在渲染时更接近曲面，则比相机在远处时产生更精细的笔划公差。从左到右：笔划公差 = 5、0.5、0.1
景深	如果启用，将使用相机模糊来模拟景深效果。这是一个后处理，开销很小。焦点基于焦距，是从视点到相机目标的距离。
模糊	显示当启用景深时应用的模糊量，值可以超过 100%。
模糊渲染方法	选项有分布式光线跟踪、混合 2.5D和快速混合 2.5D。分布式光线跟踪 - 用于渲染运动模糊和景深。此方法是一种物理上精确的方法，随着每个像素的采样数增加，将向精确解收敛。混合 2.5D - 是一种完全无噪波且计算速度快得多的方法。计算时间不是非常依赖于场景复杂度。注释: 因为此算法的工作方式，混合 2.5D不兼容网络渲染。启用网络渲染时，将强制使用分布式光线跟踪模糊方法。快速混合 2.5D - 采用一种新的景深生成算法。它基于像混合 2.5D一样的图像模糊，但使用了更快的颜色扩散算法，并与分布式光线跟踪结合使用。通常，需要多个通道才能将所有的分布式光线跟踪噪波消除掉。快速混合 2.5D中纳入了系统的对象抗锯齿。因此，抗锯齿设置变为与景深设置相关联。这意味着只有系统抗锯齿可供使用，并且每个像素的最小光线数变为等于景深通道的数量（更改其中任何一个都会同时更改两个值）。
相机投影	选项有从视图、球面和圆柱面。对于渲染全景图像，可以使用推荐长宽比为 2:1 的圆柱面或球面，例如 5000 x 2500 或 10000 x 5000 像素。
阴影	如果选中，将渲染阴影。
忽略缺省光照	如果启用，将忽略缺省光照。
忽略开放元素和文本	如果启用，将阻止渲染文本和开放元素，缺省值是启用此选项。
渲染几何图形外部视图	如果启用，会确保将整个场景发送到渲染引擎。如果不启用，可能不会渲染相机后面的一些几何图形。相机视椎体交叉的几何图形将始终包括在内。
计算物理上精确的焦散	如果启用，将导致渲染引擎渲染焦散效果。增加所用焦散光子的数量可以提高焦散的精度。顶部：不带焦散 \| 底部：带焦散
根据原有等效值渲染 PBR 材料	如果启用，在渲染时将 PBR 材料转换为原有材料并发送到光线跟踪器。

抗锯齿部分

抗锯齿是一种用于减少物体或纹理边阶梯效果（像素化）的方法。锯齿出现在物体的边界，以及纹理贴图中明显的颜色过渡处。物体抗锯齿通过对每个像素重新采样多次来提高图片的平滑度。

设置	描述
抗锯齿策略	用于控制如何将不同的抗锯齿采样数加权到最终像素：自动 - 渲染器将使用最适合每个场景的策略，即使用尖角方法渲染静态图像，使用软碰撞方法渲染动画。最清晰 - 渲染器将生成具有最清晰细节的图像，但它可能需要手动增加次级光线的数量以消除渲染中的噪波。清晰 - 静态渲染的理想选择。它产生相对清晰的结果，同时有效地消除噪波。软碰撞 - 一种稍微模糊一点（因此不太模糊）的过滤方法，通常最适合渲染动画。模糊化 - 产生模糊的结果，可能适合某些类型的动画。
抗锯齿最小采样数	控制最初发送到超级采样像素内的光线数。如果渲染引擎决定需要更多的抗锯齿光线，它将继续发送新批次的光线，直到为该像素发送的光线总数达到抗锯齿最大采样数设置。
抗锯齿质量	控制在计算第一批后渲染引擎如何决定是否需要更多的光线。设置越高，将次级光线发送到像素的频率就越高。这是一种基于颜色的抗锯齿：如果当前像素与其相邻像素之间的色差小于阈值（对比度设置），则应用抗锯齿。换句话说：增加此值将使渲染器对像素周围的色差更加敏感，以确定是否必须计算新的次级光线。它适用于场景中的所有像素。
几何图形质量	这是一个基于边的抗锯齿设置。它检查对象 ID 和深度。它使渲染器只对每个像素周围的几何图形差异更加敏感。例如，如果您将其设置为 100%，并将对比度设置为 0%，那么只有物体的边会接收更多的光线。3D 对象的云线和平滑部分不会得到任何反锯齿效果（甚至是波浪水面）。相反，如果将对比度设置为 100%，那么几何图形设置不会增加渲染的视觉质量。几何图形设置是一种手动优化方法，以避免在不需要的地方重新计算次级光线。显然，这三个设置越高，质量越好，但代价是渲染时间越长。在下图中，左边的渲染已关闭抗锯齿，右边的渲染将外部极端设置为最小采样数4，最大采样数32 且抗锯齿质量90%。顶部：抗锯齿 = 关闭 \| 底部：抗锯齿 = 极端
常规子像素采样	如果启用，将为图像中的所有像素同样放置第一批次级光线中的光线。如果不启用，则将在每个像素中随机投射次级光线。
纹理过滤	控制应用于场景中材料的自动模糊量。此设置让您可以控制渲染的整体锐度。为了获得最佳结果，此设置应与抗锯齿策略设置（见上文）一起使用。缺省情况下，将通过极端渲染预设，从内部更好和外部更好渲染设置启用纹理过滤。在纹理贴图情况下，软件会自动生成较低分辨率的图像版本，并在从远处查看时使用它们而不是原始分辨率的纹理贴图。注释: 当渲染动画时，建议您使用一定量的纹理过滤。

全局照明

在此部分，您可以更改影响光线跟踪器使用的全局照明的各种设置，包括使用的全局照明模型。MicroStation 的 VUE 渲染引擎使用三个照明模型。全局环境、环境光遮蔽和全局辐射。

场景中的每个点都接收来自太阳、天空以及环境（天空和周围的物体）的光。不同的照明模型通过估算来自环境的光量来互相区分。

设置	描述
全局环境	从各个方向考虑天空的颜色。因此，面向蓝色天空的场景部分将呈现出蓝色的光影，而面向红色天空的其他部分将呈现出红色的光影。
环境光遮蔽	将天幕上的每个点看作一个小光源。向着每一束光跟踪光线，以查看相邻的物体是否遮挡了光线。
全局辐射	在场景中传播光，而不是像环境光遮蔽模型那样传播阴影。使用此模型，暴露在光下的物体会根据其表面的光学属性向各个方向重新发射该光的一部分。因此，光将在场景中反复反弹，就像在现实世界中一样。因此，场景中的每个点都接收来自场景中所有其他物体的光。注释: 当使用辐射时，含有发光度或环境漫反射光比例采用非标准 (60:40) 的材料可能会造成照明效果不理想。为了达到预期的效果，可能需要对这些材料进行调整。间接天窗照明 - VUE 将评估每个对象接收的天窗照明量，并将其投射回场景中的其他对象上。如果不选择此选项，将使用环境光颜色，而不是计算天窗的间接贡献。间接大气 - 在计算间接照明时，考虑从云线反射到场景中物体上的光。针对室外渲染优化 - VUE 将假定渲染一个无限的室外景观。此选项将降低间接辐射计算的顺序，有效地忽略高度间接照明贡献，从而更快地产生更强的渲染。反照率比例 - 反照率是一个曲面接收的太阳辐射总量中漫反射太阳辐射的量度指标。它对应于一个曲面的散射反射强度。反照率比例让您可以全局缩放场景中所有曲面的散射反射率。注释: 对于物理修正渲染，反照率比例应该设置为 100%。这将确保输入的反射率值不会在阴影时间被缩小。在使用 PBR 材料时，这特别重要，它们通常以物理修正方式进行校准。
高级效果质量	可自定义间接照明设置，以微调在场景中评估间接照明的方式。注释: 此部分中的设置应该很少需要更改预设值，我们建议在尝试微调这些设置之前使用预设。间接照明采样 - 控制处理的照明采样的典型数量，以评估场景中每个点的间接照明。谐波距离质量 - 控制 VUE 评估到图像中某点附近物体的距离的方式，以及该距离影响间接照明评估的方式。对齐质量 - 控制 VUE 评估空间中不同照明采样对齐的方式，以及这种对齐影响间接照明评估的方式。连续性质量 - 控制 VUE 评估空间中不同照明采样方向的方式，以及该方向影响间接照明评估的方式。对比度质量 - 控制 VUE 评估不同光源和材料之间对比的方式，以及这种对比影响间接照明评估的方式。抖动 - 控制照明采样在空间中的分布方式。列表中有两个选项：减弱的脉动 - 以这样的方式分布采样，以使用自适应采样间接照明减少动画常见的低频脉动。此选项在创建动画时特别有用。标准 - 确保整个场景中照明采样的统计分布更好渲染块大小 - 控制用于评估间接照明的基础轴网。每个渲染块至少应该有一个采样。减少渲染块大小将增加间接照明评估的精度，但也会相当显著地减慢渲染。显示采样 - 如果启用，间接照明的评估点将在最终图片中显示为红色像素。适应性采样 - 如果启用，VUE 将使用多个复杂的标准评估必须用于评估间接照明的频率和精度。如果禁用，将在每个采样完全重新计算间接照明。这将导致渲染时间非常长，强烈建议不要禁用适应性采样。
间接照明	自定义辐射光子贴图选项让您可以控制用于评估和渲染辐射的光子贴图。辐射光子 - 控制发送到场景的光子总数，以便评估辐射照度。最大光子跟踪级别 - 此设置控制光在场景中反弹的次数。数值越大，对辐射照度的评估就越精确，但是处理时间也越长。聚集光子数 - 此设置控制用于评估每个点照度的光子数。最大聚集半径 - 此设置控制到光子的最大距离，超过该距离，将在计算辐射照度时忽略光子的影响。
自定义焦散光子贴图选项	此框中的设置与辐射光子贴图框中的设置相同，但它们适用于焦散光子贴图而不是辐射光子贴图。